SK海力士将DRAM和NAND存储材料合并为单一封装,实现更高的AI性能。这是技术公司加快扩展其产品能力的重要一步,旨在满足行业日益增长的芯片需求。 SK海力士正在开发新型计算机内存,该技术旨在加速本地AI运算,将移动DRAM和NAND存储材料组合为高带宽存储(HBS)。
HBS将可堆叠16层DRAM和NAND存储材料,这种设计通过独特的垂直导线扇出结构(VFO)实现层间互连。该技术不仅提高了封装效率,还改善了散热和芯片体积缩减。
与之前的高带宽闪存(HBF)方案不同,HBS不需要穿硅通孔(TSV),制造环节更简化,良品率更高。SK海力士此次创新,目标是进一步推动移动端AI性能提升。该技术计划于2029年至2031年正式发布。
新型DRAM+NAND堆叠模块将直接与应用处理器(AP)共封装,这样可以显著提升智能手机及SoC终端的数据处理速度。 SK海力士此次创新,旨在解决移动端AI性能提升的挑战。
HBS将可堆叠16层DRAM和NAND存储材料,这种设计通过独特的垂直导线扇出结构(VFO)实现层间互连。该技术不仅提高了封装效率,还改善了散热和芯片体积缩减。
与之前的高带宽闪存(HBF)方案不同,HBS不需要穿硅通孔(TSV),制造环节更简化,良品率更高。SK海力士此次创新,目标是进一步推动移动端AI性能提升。该技术计划于2029年至2031年正式发布。
新型DRAM+NAND堆叠模块将直接与应用处理器(AP)共封装,这样可以显著提升智能手机及SoC终端的数据处理速度。 SK海力士此次创新,旨在解决移动端AI性能提升的挑战。